PfeifferPemohonan pam molekul dalam barisan pengeluaran LOW-E (kaca radiasi rendah)
LOW-E ialah nama penuh kaca bersalut rendah. Kaca refleks panas relatif adalah jenis kaca penjimatan tenaga baru. Pada masa ini, teknologi salutan sputtering magnetron vakum (kaedah luar talian) digunakan secara umum di peringkat antarabangsa untuk menghasilkan kaca Low-E. Penjualan Pfeiffer di JermanPam molekulberjaya digunakan untuk ini.

PrinsipKaca diletakkan menegak di rak, dimasukkan ke dalam persekitaran vakum 10-1 Pa, memasuki jumlah gas proses yang sesuai (gas inert Ar atau gas tindak balas O2, N2), dan mengekalkan tahap vakum yang stabil. Menanamkan sasaran Ag, Si dan lain-lain ke dalam katod dan meletakkan medan magnet dalam arah mendatar menegak dengan katod sehingga membentuk sasaran magnetron. Menggunakan magnetron sasaran sebagai katod, ditambah dengan bekalan kuasa DC atau AC, di bawah peranan voltan tinggi, gas proses mengionisasi dan membentuk plasma. Di antaranya, elektron dalam kesan bersama medan elektrik dan medan magnet, melakukan pergerakan spiral berkelajuan tinggi, bertabrakan molekul gas, menghasilkan lebih banyak ion positif dan elektron; Ion positif di bawah peranan medan elektrik, setelah mencapai tenaga tertentu melanda sasaran katod, sasaran yang disemprotkan disimpan pada asas kaca untuk membentuk filem nipis. Untuk membentuk lapisan membran yang seragam, sasaran katod bergerak ke depan dan ke belakang berhampiran permukaan kaca. Untuk mencapai pelbagai lapisan membran, pelbagai katod mesti digunakan, setiap katod bergerak ke depan dan ke belakang di permukaan kaca untuk membentuk ketebalan membran tertentu.

PFEIFFER Jerman memenangi kepentingan pelanggan pasaran LOW-E dengan lebih daripada 120 tahun pengalaman pembuatan vakum dan perkhidmatan selepas jualan dan sokongan teknikal di seluruh dunia, German Pfeiffer. VON ARDENNE adalah pelanggan yang paling biasa. PFEIFFERPam molekulBarisan pengeluaran LOE-E digunakan dalam Sinyi Glass, South Glass dan lain-lain gergasi pembuatan kaca China.
PfeifferPam molekulKelebihan:

• Pelbagai kelajuan pam untuk pilihan pelanggan, kelajuan pam dari 1,000 hingga 2,000L / S
• Untuk H₂, He dan Ar, CF₄Mempunyai kelajuan pam yang tinggi
• Lokasi pemasangan dari 0 hingga 90 darjah, 90 hingga 180 darjah
• Aliran gas yang tinggi, walaupun Ar, CF₄
• Unit pemacu TC 1200 bersepadu untuk menyambungkan bekalan kuasa secara langsung
• Keupayaan tahan kakisan untuk dipilih
• Antara muka yang kaya: RS-485 dan kawalan jauh; Profibus atau Devicenet boleh dipilih
• Kelas IP 54 dan Semi S2
• Sistem bantalan rotor yang stabil dan selamat
• Mematuhi UL, CSA dan TUV pensijilan
• Pemasangan Mudah